主要功能：
采用離子源技術(shù)和磁控濺射技術(shù)相結(jié)合，對(duì)船用軸瓦進(jìn)行表面清洗刻蝕處理，隨后沉積減磨涂層。膜層具備高強(qiáng)結(jié)合力和優(yōu)異摩擦磨損性能，可替代傳統(tǒng)化學(xué)電鍍方法。設(shè)備配置平面孿生磁控濺射源、陽(yáng)極層霍爾離子源以及專(zhuān)用水冷工件轉(zhuǎn)架，可實(shí)現(xiàn)對(duì)大型軸瓦的批量處理。
技術(shù)參數(shù)：
真空室：?1300×1500mm
極限真空：￡2′10-4Pa
沉積速率：≥5μm/h
產(chǎn)品規(guī)格：≤?300mm×50
產(chǎn)品數(shù)量：≥160件/爐
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